# 國產光刻機量產衝擊美股#DUV 是當今全球晶片製造的主力設備,可生產 28nm、14nm 等,EUV 則代表著最先進製程的發展方向,主要用於 5nm、3nm、2nm 等先進製程。沒有 DUV,就難以支撐絕大多數晶片的大規模生產;沒有 EUV,就很難在先進製程競爭中佔據領先地位。



我們與國際先進水準仍有差距,但近年來國產半導體正持續突破。從追趕到並跑,再到未來實現更多自主創新,每一步都需要時間、投入和耐心。繼續加油,期待中國半導體不斷突破。#夏日创作营
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