根據荷蘭半導體觀察家 Marc Hijink 近期在荷蘭媒體發文指出，中國在半導體發展上最具挑戰性的瓶頸仍是 ASML 的極紫外光（EUV）微影設備，目前沒有可行的替代方案。Hijink 表示，ASML 花了約 15 年將 EUV 技術從理論發展到商業化生產，這是光源工程與精密製造的複雜整合，競爭對手包括日本 Nikon（投資超過 1000 億日元）最終未能成功。
雖然華為等中國企業正透過開源 RISC-V 架構在晶片設計上尋求突破，以規避美國對 x86 和 ARM 技術的出口限制，但 EUV 設備領域帶來更嚴峻的挑戰。全球而言，ASML 在 EUV 技術上幾乎完全主導，而中國目前沒有具商業可行性的本土替代方案。該分析強調，在當前出口管制下建立自主 EUV 能力，將需要進入未經探索的技術領域。
