根據《The Information》，一家由上海政府支持的公司已開始量產國內浸沒式 DUV 光刻設備，計畫於 2026 年生產約 5 台，並於 2027 年擴大至約 20 台。首批設備將交付給主要晶圓代工廠商，包括 SMIC、華虹半導體以及 Longsine Technologies，並需在精度、穩定性與製程相容性方面完成驗證。大多數元件均來自國內供應，但部分關鍵零組件仍依賴日本供應商。該設備的效能與製造品質仍落後於 ASML 的產品；作為比較，ASML 於 2025 年出貨約 131 台浸沒式 DUV 設備。
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