据《The Information》报道，一家由上海市支持的国有企业已开始生产国产浸没式 DUV 光刻设备，计划在 2026 年生产约 5 台，并在 2027 年扩大至大约 20 台。首批设备将交付给主要晶圆制造商，包括 SMIC、华虹半导体和 Longsine Technologies，具体取决于其在精度、稳定性和工艺兼容性方面的验证。大多数部件来自国内，但仍有一些关键部件依赖日本供应商。该设备的性能和制造质量仍落后于 ASML 的产品；作为对比，ASML 在 2025 年共交付了约 131 台浸没式 DUV 设备。
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