Samsung внедрит 2-нм техпроцесс для HBM5 AI-памяти — на 50% быстрее, чем HBM4E

По данным Chosun Daily, 27 июля Samsung Electronics объявила о планах использовать 2-нанометровый техпроцесс для базового кристалла своего восьмого поколения высокоскоростной памяти (HBM5). Компания заявила, что HBM5 будет обрабатывать данные более чем на 50% быстрее, чем текущие чипы HBM4E, благодаря 2-нанометровому Gate-All-Around базовому кристаллу и усовершенствованным межсоединениям через кремний (TSV), что повысит скорость и энергоэффективность.
Дисклеймер: Информация на этой странице может быть получена из источников третьих сторон и предоставляется только для ознакомления. Она не отражает взгляды или мнения Gate и не является финансовой, инвестиционной или юридической рекомендацией. Торговля виртуальными активами связана с высоким риском. Пожалуйста, не основывайте свои решения исключительно на данных этой страницы. Подробнее смотрите в Дисклеймере.
комментарий
0/400
Нет комментариев